在線咨詢
聯系電話
置頂
來源:英格爾檢測 發布時間:2023-02-22
當今世界及我國的電子化學品產品通常執行SEMI國際標準,其關鍵技術指標包含單向金屬離子,單向陰離子,顆粒數等,此外根據不同產品特色會相應增加其他一部分技術指標。
電子化學品的質量標準的發展
為了能夠規范世界超凈高純試劑的標準要求,SEMI(SemiconductorEquipmentandMaterialsInternational,國際半導體設備和材料協會)于1975年建立了SEMI化學試劑標準化委員會,專門制定、規范超凈高純試劑的國際統一標準—SEMI標準。
1978年,德國的伊默克公司也制定了MOS標準。二種標準對超凈高純化學品中金屬雜質和(塵埃)微粒的要求各有側重,各自適用于不同級別IC的制作的要求。
國際上公認的電子化學品的標準要求大致可分為四類:一類是以SEMI為基礎的美國試劑標準;一類是以德國E.Merck標準為主的歐洲試劑標準;一類是以日本關東化學(Kanto)公司、和光純藥工業(Wako)公司的濕電子化學品為代表的日本試劑標準;另一類則是以REA公司為代表的俄羅斯試劑標準。ULSI在全球的快速發展使得這些標準的指標有逐步接近的趨勢,但SEMI標準更早取得世界范圍內的普遍認可。
電子化學品SEMI標準
進入21世紀,國際SEMI標準化組織又根據電子化學品在世界范圍內的實際發展情況對原有的分類體系進行了歸并,按品種進行分類,每個品種歸并為一個指導性的標準要求,其中包括多個用于不同工藝技術的等級。對應集成電路不同技術水平,所需要電子化學品的標準要求越高,純度和潔凈度的要求也就越高。如果給電子化學品分級別或檔次的話,那么用于≥1.2μm屬于低檔產品(需采用SEMIC1等級的濕電子化學品),0.8~1.2μm屬于中低檔產品(需采用SEMIC7等級的電子化學品),0.2~0.6μm屬于中高檔產品(需采用SEMIC8等級的電子化學品)。0.09~0.2μm和<0.09μm則屬于高檔產品(需采用SEMIC12等級的電子化學品),其中≥1.2μm和0.8~1.2μm的硅片主要用于制作分立器件;0.2~0.6μm和0.09~0.2μm的硅片主要用于大規模集成電路和超大規模集成電路制造中。
可看出,電子化學品制備的關鍵在于控制并達到其所要求的雜質含量和顆粒度。為使超凈高純試劑的質量達到要求,需從多個方面同時進行保障,包含試劑的
提純、包裝、供應系統及分析方法等。目前,國際上普遍使用的提純工藝有十余種,它們適用于不同成分、不同要求的超凈高純試劑的生產,例如,蒸餾、精餾、連續精餾、鹽熔精餾、共沸精餾、亞沸騰蒸餾、等溫蒸餾、減壓蒸餾、升華、化學處理、氣體吸收等。超凈高純試劑在運輸過程中極易受污染,所以超凈高純試劑的包裝及供應方式是電子化學品使用的重要一環。特別是顆粒控制的相關技術,它貫穿于超凈高純試劑生產、運輸的始終,包括環境控制、工藝控制、成品包裝控制等各個環節。
目前,國際上制備SEMI-C1到SEMI-C12級電子化學品的技術都已經趨于成熟。隨著集成電路制作要求的提高,對工藝中所需的濕電子化學品純度的要求也不斷提高。從技術趨勢上看,滿足納米級集成電路加工需求是超凈高純試劑今后發展方向之一。
按照國標試劑(該類試劑為我國國家標準所規定,適用于檢驗、鑒定、檢測)的分級為(要求從高到低排列):(1)工作基準試劑(國標無簡寫標記,用漢語注明,綠色標簽):作為基準物質,標定標準溶液。(2)優級純(GR,綠色標簽):主成分含量很高、純度很高,適用于精確分析和研究工作,有的可作為基準物質。(3)分析純(AR,紅色標簽):主成分含量很高、純度較高,干擾雜質很低,適用于工業分析及化學實驗。這個是一般實驗室用的最多的等級。(4)化學純(CP,藍色標簽):主成分含量高、純度較高,存在干擾雜質,適用于化學實驗和合成制備。(5)實驗試劑(LR,黃色標簽):主成分含量高,純度較差,雜質含量不做選擇,只適用于一般化學實驗和合成制備。其他根據不同用途的要求,又可分為很多特定的等級。此類試劑質量注重的是:在特定方法分析過程中可能引起分析結果偏差,對成分分析或含量分析干擾的雜質含量,但對主含量不做很高要求。