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　　濕電子化學品簡介

　　濕化學(Wet chemical)是指在微電子和光電子的濕法工藝中使用的各種電子化學材料(主要包括濕法刻蝕、清洗、顯影、互連等。).濕化學品按用途可分為一般化學品(也稱超凈高純試劑)和功能化學品(以光刻膠匹配試劑為代表)。

　　一個

　　超高純度試劑

　　一般要求化學試劑的粒度控制在0.5μm以下，雜質含量控制在ppm級別以下，是對顆粒控制和雜質含量要求最高的一種。

　　2

　　功能化學品

　　是指通過復合手段，在制造中實現特殊功能，滿足特殊工藝要求的配方或復合化學品。功能化學品通常與光刻膠一起使用，包括顯影劑、沖洗液、剝離液等。

　　從產品結構來看，超凈高純試劑需求占88%，功能化學品占12%。超凈高純試劑中，硫酸、雙氧水、氨水、氫氟酸、異丙醇、硝酸、磷酸占比較大。在功能化學品中，主要的是半導體顯影液、蝕刻液、面板顯影液、剝離液和緩沖蝕刻液。

　　濕化學品的下游行業多為半導體、顯示面板、太陽能電池等技術密集型行業。根據不同的應用領域，對產品的純度和潔凈度也有不同的要求。本文僅以半導體領域為例做簡要分析。

　　1.在晶圓制造過程中，濕式電子化學品主要用于清洗顆粒、有機殘留物、金屬離子、自然氧化層和其他污染物。

　　其次，通過刻蝕液與特定薄膜材料的化學反應，去除未被光刻膠覆蓋區域的薄膜，實現圖形轉移，得到器件的結構。

　　3.濕法電子化學品還應用于后端高端封裝領域的清洗、濺射、黃光、蝕刻等工藝環節。

　　對微量金屬雜質含量、顆粒大小和數量、陰離子雜質含量等有嚴格要求。半導體濕電子化學品。根據SEMI標準，半導體領域使用的濕電子化學品集中在SEMIG3和G4級別，集成電路的線寬越窄，要求的標準越高。

　　如今，中國已經成為全球最大的半導體消費市場。物聯網、5G通信、人工智能等下一輪終端需求，為中國大陸半導體產業發展創造了新的機遇。產業鏈的協調進步是半導體產業持續、健康、穩定發展的關鍵。材料產業作為重要的支撐，是最重要的。

　　從銷售規模來看，國內所有半導體領域的濕法電子化工公司都還處于起步階段，但由于各種材料在國內大廠都通過了認證，預計可以進行國內替代的快速發展。但企業從立項到最終工業量產，至少需要三年的等待期。其中，2年以上基礎設施調試行政審批。而且在日益嚴峻的環保形勢下，未來新進入者或擴產獲批的難度會越來越大。此外，從驗證到實際引入客戶流程，還需要一年以上的時間才能進入工業量產階段。

　　目前，我國半導體材料整體國產化仍處于較低水平，尤其是中高端領域。有很多產品和技術需要突破。提高中國半導體材料國產化任重道遠。

　　高純度材料的制造不僅需要精細的工藝流程和操作步驟，還需要大量的沉淀經驗。在摩爾定律的驅動下，半導體制造工藝基本上是每兩年換一次，而濕法電子化學品，自從晶體管發明以來，基本產品沒有顛覆性創新，適合慢慢地、小心翼翼地改進制造工藝。